Litografia com ultravioleta extrema (Fonte da imagem: Reprodução/Wikimedia Commons)

Atualmente, os processadores usam um sistema de litografia para registrar informações por meio de ultravioleta profunda. Mas uma nova tecnologia promete aprimorar ainda mais este método: é um novo tipo de luz, que utiliza a chamada radiação ultravioleta extrema (EUV), e deve acelerar ainda mais a produção de chips.

A fabricação de processadores está próxima do limite, afinal, o atual esquema de ultravioleta profunda permite gravações litográficas com ondas de 193 nanômetros, mas a geometria de produção chega a ter 29 nanômetros. Com a EUV, a radiação tem ondas que variam de comprimento entre 10 e 124 nanômetros, ampliando as possibilidades de fabricação.

O problema, então, passa a ser de intensidade: os cientistas encontram dificuldades em criar um raio EUV forte o suficiente para realizar gravações em um processador; sem isso, a tecnologia se torna inútil.

Primeiro protótipo

A ASML é uma companhia que desenvolve tecnologia de fundição e acaba de anunciar um protótipo relacionado ao EUV. O equipamento, planejado para ser comercializado em larga escala, deve ser capaz de emitir raios de ultravioleta extrema com 80 watts ainda neste ano. Para 2014, a ideia é que ele alcance a potência de 250 watts, mas sua meta é alcançar os 1.000 watts, algo que a ASML acredita ser possível a partir de 2015.

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